基本解释

• [电子、通信与自动控制技术]注入杂质

英汉例句

双语例句

• The implanted dopant has a first dopant profile in the silicon layer.
  所注入的掺杂剂在硅层中具有第一掺杂剂分布。
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• The additional implanted dopant has a second dopant profile in the silicon layer different than the first dopant profile.
  附加的 所注入的掺杂剂在硅层中具有与第一掺杂剂分布不同的第二掺杂剂 分布。
  ip.com

专业释义

电子、通信与自动控制技术

• 注入杂质